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美国加利福尼亚州圣何塞国际先进光刻技术博览会(SPIE ADVANCED LITHOGRAPHY)
展会时间:
2026年2月22日-26日
展会行业:
展馆图:
中国组展机构:
盈拓国际展览
标准展位: 查看价格
光地展位: 查看价格
3.0
3星展会
  • 规模度

  • 专业度

  • 评价度

  • 观众度

  • 市场度

距开展还剩
231
展会介绍
英文名称:SPIE ADVANCED LITHOGRAPHY
英文简称:SPIE ADVANCED LITHOGRAPHY
举办周期:一年一届
展会规模:20000-50000

     美国加利福尼亚州圣何塞拥有世界上最大的技术专长集中地,并在专利生成方面领先于美国。

     该市拥有 25 家员工人数在 1,000 人以上的公司,包括 Adobe Systems、BEA Systems、Cisco、Xilinx、Lam Research 和 eBay 的总部,以及伟创力、惠普、IBM、日立、安捷伦科技和洛克希德马丁的主要设施。      探索将在 SPIE 数字图书馆中发布的来自世界各地的数百个演示文稿,利用各种技术和网络活动来让您了解最新的研究和同行的最新动态,世界级的演讲者分享有关行业和学术界的最新挑战和机遇的见解。

中国组展机构:盈拓展览,以创新科技和服务体验为核心,获得客户好评。20余年行业经验,为中国外贸企业提供高效、专业的展览服务。

展品范围
光学和 EUV 纳米光刻
DTCO 和计算模式
计量、检测和过程控制
新颖的图案化技术
图案化材料和工艺的进展
用于纳米图案化的先进蚀刻技术和工艺集成
展馆信息
往届数据
参展商: 1,588 家参展商
参展观众:来自 75 多个国家的 24,000 名游客
展览面积:30,000平方米
*凡本网注明来源:“盈拓国际展览导航”的所有作品,版权均属于盈拓国际展览导航,转载请注明。
*凡注明为其它来源的信息,均转载自其它媒体,转载目的在于传递更多信息,并不代表盈拓国际展览导航赞同其观点及对其真实性负责。
美国加利福尼亚州圣何塞国际先进光刻技术博览会
SPIE ADVANCED LITHOGRAPHY
展会时间:
2026年2月22日-26日
展会行业:
举办周期:
一年一届
展会规模:
20000-50000
中国组展机构:
盈拓国际展览
3.0
  • 规模度

  • 专业度

  • 评价度

  • 观众度

  • 市场度

展会介绍

     美国加利福尼亚州圣何塞拥有世界上最大的技术专长集中地,并在专利生成方面领先于美国。

     该市拥有 25 家员工人数在 1,000 人以上的公司,包括 Adobe Systems、BEA Systems、Cisco、Xilinx、Lam Research 和 eBay 的总部,以及伟创力、惠普、IBM、日立、安捷伦科技和洛克希德马丁的主要设施。      探索将在 SPIE 数字图书馆中发布的来自世界各地的数百个演示文稿,利用各种技术和网络活动来让您了解最新的研究和同行的最新动态,世界级的演讲者分享有关行业和学术界的最新挑战和机遇的见解。

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光学和 EUV 纳米光刻
DTCO 和计算模式
计量、检测和过程控制
新颖的图案化技术
图案化材料和工艺的进展
用于纳米图案化的先进蚀刻技术和工艺集成
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往届数据
参展商: 1,588 家参展商
参展观众:来自 75 多个国家的 24,000 名游客
展览面积:30,000平方米
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